На поверхности, полированной химическим способом, невозможно точно определить максимум отраженных лучей. При вращении освещенного изделия блеск его вначале увеличивается, затем уменьшается. Угол рассеивания достигает 20° и более (рис. 98). При тщательном наблюдении было замечено, что волнистость получается не только на больших, но и на малых поверхностях, что легко подтверждается при просмотре образцов в микроскопе. Поэтому лучи света на неровной поверхности стекла отражаются в различных направлениях, создавая серебристый блеск.
Чем больше волнистость химически полированного стекла, тем меньше его химическая стойкость. Состав поверхностного слоя такого стекла отличается от состава поверхности стекла, подверженного полированию огнем. Для определения изменений на поверхности стекла и для контроля за процессом полирования одновременно полировались плоскопараллельные пластинки размером 6x6 см, шлифованные с одной стороны. Через пластинку пропускали пучок лучей, испускаемых точечным источником света и образующих угол в 15°. Стеклянная пластинка была поставлена перпендикулярно к направлению главного луча на таком расстоянии от источника света, чтобы на ней образовался светлый круг диаметром в 20 мм.
Тень фиксировалась за пластинкой на расстоянии 10, 20 и 30 см при помощи белого экрана. Для постоянной регистрации на экран накладывали фотографическую бумагу. Шлифованная поверхность имеет крупнозернистую структуру, которая дает очень затемненное изображение и рассеивает свет. В процессе полирования при регистрации его отдельных фаз площадь тени в среднем несколько увеличивалась и зернистая структура ее рассеивалась. По мере исчезновения зернистой структуры возрастало рассеивание и увеличивался световой круг. Поверхность была волнистой, неровной.